固(gu)體徑(jing)跡蝕(shi)刻(ke)測量(liang)系(xi)統

產(chan)品特(te)點

v全(quan)自(zi)動(dong)分析批量探(tan)測器(qi)，單(dan)次可讀取64片探(tan)測器(qi)（1cm×1cm），單(dan)次分析數(shu)量(liang)連(lian)續(xu)可調

v全(quan)自(zi)動(dong)校(xiao)正響應(ying)衰變(bian)

v本(ben)底低(di)探(tan)測限(xian)可達(da)5 kBq/m³，高(gao)探(tan)測限(xian)可達(da)15 MBq/m³

v線(xian)性度好於3%

v具有(you)自動(dong)分辨(bian)氡(dong)/釷的能(neng)力(li)

v全(quan)自(zi)動(dong)讀(du)出(chu)ID號(hao)

v自(zi)動對(dui)焦，高性能(neng)成像技術，可區分蝕(shi)刻(ke)徑跡和(he)本底(di)

v可全(quan)自(zi)動(dong)讀(du)取徑(jing)跡探(tan)測器(qi)信(xin)息(xi)，包(bao)括自(zi)動(dong)識(shi)別探(tan)測器(qi)編碼(ma)、自(zi)動(dong)測量(liang)探(tan)測器(qi)徑(jing)跡計(ji)數(shu)、自(zi)動(dong)識(shi)別有(you)效徑(jing)跡(ji)、標(biao)記徑(jing)跡的(de)絕對位(wei)置(zhi)

v徑(jing)跡讀(du)數(shu)自(zi)動(dong)轉換成劑(ji)量，結果保存在數(shu)據(ju)庫中(zhong)，還(hai)可把(ba)數(shu)據(ju)導(dao)出(chu)到Excel表(biao)中(zhong)

   技術參(can)數(shu)

  蝕(shi)刻(ke)單元

v n蝕(shi)刻(ke)溶液：6.25mol/L氫(qing)氧(yang)化(hua)鈉(na)溶(rong)液

v n蝕(shi)刻(ke)溫度：95℃

v n蝕(shi)刻(ke)時間(jian)：<5小(xiao)時

v n單(dan)次最大蝕(shi)刻(ke)數(shu)量(liang)：≥250個(ge)（1cm*1cm，CR-39），蝕(shi)刻(ke)數(shu)量(liang)連(lian)續(xu)可調

v n蝕(shi)刻(ke)速(su)率(lv)：蝕刻(ke)溫度為(wei)98 ℃時，速(su)率(lv)為10μm/h

v n自(zi)動控(kong)制整(zheng)個化(hua)學蝕(shi)刻(ke)過程，並顯(xian)示當(dang)前(qian)工作狀(zhuang)態

v n腔(qiang)體采(cai)用堅固(gu)耐(nai)用抗腐(fu)蝕(shi)的高強(qiang)度材(cai)料