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更(geng)新(xin)時間:2025-03-07
訪(fang)問(wen)量:2065
廠(chang)商(shang)性(xing)質:生(sheng)產廠(chang)家(jia)
生(sheng)產地址:上(shang)海(hai)
| 重(zhong)量 | 1.6kg | 測(ce)量範圍(wei) | 探頭(tou)面積:170cm2 |
|---|---|---|---|
| 電(dian)源電(dian)壓 | 12V | 執(zhi)行質量標(biao)準(zhun) | 國標(biao) |
| 產地 | 國產 | 加(jia)工(gong)定(ding)制 | 否 |
HY-RAM-150型(xing)αβ表面(mian)汙(wu)染儀(yi)
HY-RAM-150 αβ表面(mian)汙(wu)染儀(yi)簡(jian)介
HY-RAM-150 αβ表面(mian)汙(wu)染儀(yi)主要用(yong)於(yu)測(ce)量物(wu)體(ti)表面(mian)的(de)αβ放射性(xing)表面(mian)汙(wu)染水(shui)平(ping),也(ye)可(ke)測(ce)量γ輻(fu)射劑量率,對(dui)低(di)水平(ping)輻射非常(chang)靈敏(min)。對汙(wu)染(ran)的(de)墻壁(bi)、桌(zhuo)面(mian)、地板及工(gong)作(zuo)人(ren)員(yuan)的(de)身(shen)體(ti)部位(wei)和工作(zuo)服(fu)等αβ汙(wu)染(ran)具有(you)良(liang)好的(de)測(ce)量特(te)性(xing)。適用(yong)於(yu)低水(shui)平(ping)α、β輻射表面(mian)汙(wu)染檢(jian)測(ce)。特別(bie)是具有(you)放射性(xing)藥品生(sheng)產檢(jian)驗過程中(zhong)對(dui)人(ren)體(ti)手腳(jiao),工作(zuo)臺(tai)和使用工具的(de)放射性(xing)汙染(ran)檢(jian)測(ce)。儀(yi)器(qi)采用(yong)雙閃(shan)探測(ce)器(qi),具有(you)較(jiao)高(gao)的(de)探測(ce)效率;同(tong)壹探(tan)頭(tou)能同(tong)時測(ce)量α、β,並(bing)自動(dong)區(qu)分α和β粒(li)子(zi)。是環(huan)境(jing)實驗室、核(he)醫(yi)學、分(fen)子(zi)生(sheng)物學、放射化學(xue)、核原料(liao)運(yun)輸、儲(chu)存(cun)和商檢(jian)等(deng)領(ling)域(yu)進(jin)行(xing)α、β輻射表面(mian)汙(wu)染檢(jian)測(ce)的(de)理想儀(yi)器(qi),該儀(yi)器(qi)采用(yong)單(dan)片(pian)機(ji)控(kong)制,可(ke)實(shi)現數(shu)據的(de)連續采(cai)集、存(cun)儲(chu),並可(ke)隨時(shi)查(zha)詢(xun)。
HY-RAM-150 αβ表面(mian)汙(wu)染儀(yi)儀(yi)器(qi)特點(dian)
儀(yi)器(qi)測(ce)量讀(du)數(shu)由帶(dai)背(bei)光點(dian)陣液晶顯(xian)示(shi)器(qi)給出,對α和β測(ce)量可(ke)切(qie)換顯(xian)示(shi),測(ce)量時(shi)由手柄按(an)鍵操(cao)作(zuo),並設(she)置(zhi)手動(dong)清(qing)零(ling)計(ji)數(shu)和自動(dong)清(qing)零(ling)計(ji)數(shu)兩種工(gong)作(zuo)方式(shi),方(fang)便(bian)使用(yong),易於(yu)控制。具有(you)超閾值(zhi)報(bao)警、超量程報(bao)警、電(dian)池(chi)欠(qian)壓報(bao)警等(deng)功(gong)能。具有(you)大(da)面積(ji)、高(gao)靈敏(min)、多(duo)功(gong)能 、易(yi)操作(zuo)的(de)特點(dian)。適用(yong)於(yu)核能(neng)利(li)用的(de)各廠(chang)礦(kuang)、車(che)間、實驗室、核(he)設(she)施退役(yi)、核電(dian)站(zhan)、核以(yi)及核(he)防護(hu)部門等(deng)。可(ke)作(zuo)為(wei)應核(he)急測(ce)量箱配(pei)套設(she)備(bei)。
HY-RAM-150 αβ表面(mian)汙(wu)染儀(yi)技(ji)術(shu)指(zhi)標(biao):
(1)探(tan)測(ce)器(qi):帶(dai)有ZnS層(ceng)的(de)薄膜(mo)塑(su)料(liao)閃(shan)爍體(ti);
(2)探(tan)頭(tou)面積:170cm2;
(3)顯(xian)示(shi)單(dan)位(wei):C/s、Bq或(huo)者(zhe)Bq/cm2;
(4)閾值(zhi):α、β的(de)閾值(zhi)選用C/s、Bq或(huo)者(zhe)Bq/cm2單(dan)位(wei)進(jin)行(xing)編程設(she)置(zhi);
(5)人(ren)體(ti)工程學壹體(ti)化機(ji), 大液晶屏, 帶(dai)背(bei)景(jing)燈(deng);
(6)自動(dong)本(ben)底(di)扣除,可(ke)定(ding)義本底(di)測(ce)量時(shi)間;
(7)測(ce)量時(shi)間:連續測(ce)量以(yi)“秒”為(wei)單(dan)位(wei)可(ke)調;
(8)有(you)效面積(ji)上探(tan)測(ce)不(bu)均(jun)勻度不(bu)大(da)於15%;
(9)溫(wen)度:﹣10℃~﹢40℃;
(10)附(fu)件(jian):配(pei)電(dian)源適配(pei)器(qi)、儀(yi)器(qi)設(she)備(bei)箱等(deng)相關附(fu)件(jian)。
(11) 重(zhong)量:1.6kg; 尺(chi)寸:(長(chang))22.5cm×(寬)11.8 cm×(高(gao))16.3cm(包(bao)括手柄)。
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