便(bian)攜(xie)式(shi)表(biao)面汙(wu)染(ran)儀用於(yu)監測各類(lei)表(biao)面放射性物質(zhi)(發射體)沾(zhan)汙(wu)水(shui)平(ping)的(de)儀(yi)表(biao)。如控(kong)制區出入口(kou)的(de)門(men)式(shi)全(quan)身汙(wu)染(ran)監測儀。
便(bian)攜(xie)式(shi)表(biao)面汙(wu)染(ran)儀是(shi)以(yi)色(se)列(lie)核(he)測量中心(xin)的(de)技(ji)術研究為基(ji)礎，根據(ju)核(he)快速(su)應(ying)急(ji)反(fan)應(ying)監測技(ji)術要求(qiu)，專(zhuan)門為核(he)醫(yi)學、分(fen)子生物實驗(yan)室、核材料(liao)運(yun)輸(shu)及(ji)其它存在α、β表(biao)面沾(zhan)汙(wu)和(he)γ輻射的(de)方(fang)面而(er)設計，是(shi)壹種高靈(ling)敏度智能(neng)化便(bian)攜(xie)式(shi)儀(yi)器(qi)。也叫巡(xun)測儀！該(gai)表(biao)面汙(wu)染(ran)檢測儀兼具(ju)表(biao)面沾(zhan)汙(wu)監測儀和(he)γ劑量率儀兩種儀(yi)器(qi)的功能，既可(ke)用(yong)來(lai)測量α、β引(yin)起(qi)的表(biao)面沾(zhan)汙(wu)，又(you)可用(yong)來(lai)測量γ劑量率。
壹：便(bian)攜(xie)式(shi)表(biao)面汙(wu)染(ran)儀主要應(ying)用(yong)：
工(gong)作場(chang)所、實驗(yan)室、醫院、同位素(su)生產廠房、工作臺(tai)面、地(di)板(ban)、墻(qiang)壁(bi)、手(shou)、衣服(fu)等表(biao)面的(de)αβ放射性汙(wu)染(ran)；另外還可(ke)用(yong)對(dui)γ輻射場(chang)進行(xing)監測。
主要可(ke)供(gong)如(ru)下壹些單(dan)位選(xuan)用(yong)：
1.醫院的放療室、χ光(guang)攝影(ying)等部(bu)門。
2.核(he)電站(zhan)，核研(yan)究院所，放射性實驗(yan)室等單(dan)位。
3.同位素(su)生產廠房及(ji)應用(yong)部(bu)門。
4.各級(ji)衛(wei)生護防防疫(yi)站(zhan)。
5.各級(ji)環(huan)境監測部(bu)門。
以(yi)上(shang)是(shi)小(xiao)編為(wei)大(da)家(jia)講解的產品用途(tu)，那(na)麽小(xiao)編接下來(lai)進壹步講解性能有(you)哪些？
二(er)：便(bian)攜(xie)式(shi)表(biao)面汙(wu)染(ran)儀產品性能：
1、探(tan)測器(qi)與(yu)顯(xian)示(shi)單(dan)元壹體化設計，可單(dan)手便(bian)捷測量。
2、進口(kou)晶體材料(liao)及(ji)光(guang)電倍增(zeng)器(qi)件，雙(shuang)膜工(gong)藝(yi)，本(ben)底穩(wen)定。
3、可(ke)同時(shi)測量αβ，也可單(dan)測α或β，數(shu)值同時(shi)顯(xian)示(shi)。
4、多測量模式(shi)，可(ke)快速(su)掃(sao)描(miao)測量，也可自定(ding)義(yi)精確(que)測量。
5、殼(ke)體采用*的(de)內部(bu)光(guang)學物理(li)設計，探(tan)測效率高。
6、鏡(jing)面不(bu)銹鋼保護(hu)網(wang)設計，便(bian)於(yu)清洗去(qu)汙(wu)。
以(yi)上(shang)就(jiu)是(shi)小(xiao)編為(wei)大(da)家(jia)介(jie)紹(shao)的全(quan)部(bu)內容(rong)，希(xi)望(wang)對(dui)大(da)家(jia)有所幫助(zhu)。
