服務(wu)熱(re)線(xian)
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RAM-01多(duo)功(gong)能(neng)α 、β 、Χ 、γ 射線檢(jian)測儀
儀(yi)器(qi)簡介(jie):
RAM-01多(duo)功(gong)能(neng)α 、β 、Χ 、γ 射線檢(jian)測儀是(shi)壹種便攜(xie)式、放射性表面(mian)沾汙(wu)檢(jian)測與(yu)輻射劑量(liang)率(lv)測量(liang)的(de)多(duo)功(gong)能(neng)儀,是(shi)根據(ju)核(he)快(kuai)速(su)應(ying)急(ji)反應(ying)監測技(ji)術(shu)要(yao)求(qiu),專(zhuan)門(men)為(wei)安監(jian)部(bu)門(men)、疾病控制中心(xin)、核(he)醫(yi)學、分子生物實(shi)驗室(shi)、核(he)材(cai)料(liao)運輸及(ji)其它(ta)存(cun)在(zai)αβ表(biao)面(mian)沾汙(wu)和X,γ輻射的(de)方(fang)面而設計(ji),是(shi)壹種高(gao)靈敏(min)度智能(neng)化便(bian)攜(xie)式儀(yi)器(qi)。它(ta)兼(jian)具(ju)表(biao)面(mian)沾汙(wu)監測儀和(he)X,γ劑量(liang)率(lv)儀(yi)兩(liang)種儀器的(de)功(gong)能(neng),既可(ke)用來(lai)測量(liang)αβ引(yin)起的(de)表(biao)面沾汙(wu),又可用(yong)來(lai)測量(liang)Xγ輻射劑量(liang)率(lv)。對(dui)α和(he)β\γ測量(liang)可(ke)切換(huan)顯(xian)示,測量(liang)時(shi)由手(shou)柄(bing)按(an)鍵操(cao)作(zuo),測量(liang)單位cps\cpm\Bq/cm2可(ke)轉換。
應(ying)用(yong)領域:
主(zhu)要(yao)應(ying)用(yong)在(zai)疾病控制中心(xin)、放射性工作(zuo)場所、實(shi)驗室(shi)、醫(yi)院、同(tong)位(wei)素生產廠房、工作(zuo)臺(tai)面(mian)等αβ放射性汙(wu)染(ran)與(yu)γ輻射場所輻射劑量(liang)率(lv)檢(jian)測。
主(zhu)要(yao)技(ji)術(shu)指標(biao):
1.輻射類型:α 、β 、Χ 、γ 射線 ;
2.測量(liang)單位:μ Gy/ h,μ Sv/h、cps,cpm,Bq/cm2;
3.能(neng)量(liang)範(fan)圍:50KeV-3MeV;
4.靈敏(min)面積(ji):≥16cm2;
5.測量(liang)範(fan)圍: α 、β :0.00 cps- 105cps;
α 、β :0.00Bq/ cm2-106Bq/ cm2;
χ 、γ :0.1μ Gy/ h- 500μGy/ h;
6.探測器:扁平(ping)雲母(mu)窗蓋革(ge)探測器;
7.探測效率(lv):90 Sr- 90Y,≥40 ,239Pu≥20(帶(dai)保護格柵);
8.固(gu)有(you)誤(wu)差:小(xiao)於± 15 %( 相對137 Cs) ;
9.典型(xing)特(te)點:帶(dai)有串口數(shu)據(ju)校(xiao)正(zheng)K值因子(zi)功(gong)能(neng),測量(liang)平(ping)均時(shi)間(jian)1-99S可設置(zhi)功(gong)能(neng),反應(ying)快,靈敏(min)度高(gao);
10.顯(xian)示:LED液(ye)晶顯(xian)示;
11.存(cun)儲(chu):存(cun)儲2000個(ge)數(shu)據(ju),可(ke)手(shou)動(dong)自(zi)動(dong)處理數(shu)據(ju);
12.溫濕(shi)特(te)性:- 10℃- + 50℃,RH 95 ( 35℃);
13.供(gong)電方(fang)式:≥7.4V,可(ke)充(chong)電鋰(li)電(dian)池(chi) ;
14.功(gong)耗(hao):≤100mW ;
15.連續(xu)工(gong)作(zuo)時(shi)間(jian)>100h ;
16.儀器(qi)重(zhong)量(liang):980g(含(han)電池(chi)),整體(ti)尺(chi)寸:260X200X120(mm).
上(shang)壹(yi)篇(pian) : BG3732型(xing)核(he)輻射成像(xiang)監測儀
下(xia)壹(yi)篇(pian) : 便(bian)攜(xie)式表(biao)面(mian)汙(wu)染(ran)儀(yi)的(de)應(ying)用是(shi)大(da)勢所趨