電離輻射(she)的(de)輻(fu)射(she)危(wei)害(hai)有(you)哪(na)些(xie)？

電離輻射(she)的(de)輻(fu)射(she)危(wei)害(hai)有(you)哪(na)些(xie)？

1、輻(fu)射(she)危(wei)害(hai)

電離輻射(she)能(neng)引起(qi)細胞(bao)化學平(ping)衡的(de)改(gai)變，某(mou)些(xie)改變會引起(qi)癌(ai)變。電離輻射(she)能(neng)引起(qi)體(ti)內(nei) 細胞(bao)中(zhong)遺傳(chuan)物(wu)質(zhi)DNA的(de)損傷，這(zhe)種(zhong)影(ying)響甚至可(ke)能傳到(dao)下壹代，導(dao)致(zhi)新生壹代畸(ji)形， 先(xian)天(tian)白血病(bing)...在大(da)量(liang)輻(fu)射(she)的(de)照(zhao)射(she)下(xia)，能在幾(ji)小時或幾(ji)天內(nei)引起(qi)病(bing)變，或是導致死亡(wang) 。

2、照(zhao)射(she)危(wei)害(hai)

電離輻射(she)在人(ren)體(ti)組(zu)織(zhi)內(nei)釋(shi)放(fang)能量(liang)，導致細胞(bao)死亡(wang)或損傷。在少(shao)量(liang)劑(ji)量下(xia)，它並(bing)不能 造成傷害(hai)。在某(mou)些(xie)情況下，細胞(bao)並(bing)不死亡(wang)，但是變成非正常細胞(bao)，有(you)些(xie)為暫時，有(you) 些(xie)為*的(de)，那(na)些(xie)費(fei)正常細胞(bao)甚至發展為癌(ai)變細胞(bao)。大(da)劑(ji)量的(de)照(zhao)射(she)將引起(qi)大(da)範圍的(de) 細胞(bao)死亡(wang)。在小劑(ji)量的(de)照(zhao)射(she)下(xia)，人(ren)體(ti)或(huo)部分(fen)被(bei)照(zhao)器官能(neng)存(cun)活(huo)下(xia)來，但是zui終導致癌(ai) 癥(zheng)發(fa)病(bing)率大大(da)增(zeng)加。受照(zhao)損傷範圍依(yi)賴(lai)於(yu)照射(she)源(yuan)的(de)大(da)小，受照(zhao)時間以及受照(zhao)組(zu)織(zhi)。 受低(di)或(huo)中(zhong)等的(de)照(zhao)射(she)的(de)傷害(hai)並不能在幾(ji)個(ge)月(yue)甚至是壹年中(zhong)顯(xian)示(shi)出(chu)來(lai)。例如(ru)，因(yin)照射(she)引 起(qi)的(de)白(bai)血病(bing)，受照(zhao)與(yu)發(fa)病(bing)的(de)潛(qian)伏(fu)期(qi)為二年。腫瘤(liu)潛伏期(qi)為(wei)五(wu)年。照(zhao)射(she)後(hou)產(chan)生的(de)病(bing)變 與發病(bing)的(de)幾(ji)率依(yi)賴(lai)於(yu)受照(zhao)類(lei)型(慢(man)性(xing)照射(she)，急(ji)性照(zhao)射(she))。這(zhe)裏必須指明並不是所有(you)受 照(zhao)後(hou)產(chan)生的(de)病(bing)因(yin)都由照射(she)引起(qi)。同(tong)時，因(yin)照射(she)誘(you)發的(de)癌(ai)癥(zheng)及人(ren)體(ti)基(ji)因(yin)的(de)損傷與其(qi)他 因(yin)素(su)無(wu)顯(xian)著差別

3、慢(man)性(xing)照射(she)

慢(man)性(xing)照射(she)在長時間內(nei)斷(duan)斷(duan)續續的(de)暴(bao)露在低(di)水(shui)平(ping)劑(ji)量的(de)輻(fu)射(she)環(huan)境(jing)下(xia)。慢(man)性(xing)照射(she)產(chan)生的(de) 作(zuo)用，只(zhi)有(you)在照(zhao)射(she)後(hou)的(de)壹段時間後(hou)，才(cai)可(ke)能被(bei)察(cha)覺(jiao)。這(zhe)種(zhong)作(zuo)用包括(kuo)：DNA變異； 誘癌(ai)；良性(xing)腫(zhong)瘤(liu)；白內(nei)障；皮(pi)膚(fu)癌；先(xian)天(tian)性缺陷... 

4、急(ji)性(xing)照(zhao)射(she)

急(ji)性照(zhao)射(she)是在很(hen)短(duan)的(de)時間內(nei)受到(dao)大(da)劑(ji)量的(de)照(zhao)射(she)。大(da)劑(ji)量的(de)照(zhao)射(she)壹般由事(shi)故(gu)或(huo)是特別 的(de)醫(yi)療(liao)過(guo)程(cheng)。在大(da)多(duo)數情況下，大劑(ji)量的(de)急(ji)性(xing)受照(zhao)能(neng)引起(qi)立(li)即損傷，並產(chan)生(sheng)慢(man)性(xing)損 傷。對(dui)於人(ren)體(ti)，大(da)劑(ji)量 能(neng)引起(qi)急(ji)性放(fang)射(she)病(bing),如大面(mian)積(ji)出(chu)血，細菌(jun)感(gan)染(ran)，貧(pin)血，內(nei)分(fen) 泌失(shi)調...後(hou)期(qi)效應(ying)可(ke)能引起(qi)白(bai)內(nei)障，癌(ai)癥(zheng)，DNA變異...劑(ji)量能(neng)在很(hen)短(duan)的(de)時間內(nei) 導(dao)致(zhi)死亡(wang)。

如何進(jin)行輻(fu)射(she)防(fang)護(hu)?    

輻(fu)射(she)包括(kuo)電離輻射(she)和非(fei)電離輻射(she)。在核領域，輻(fu)射(she)防(fang)護(hu)專(zhuan)指電離輻射(she)防(fang)護(hu)。對(dui)人(ren)體(ti)而言(yan)，電離輻射(she)外照(zhao)射(she)主(zhu)要來(lai)自(zi)X射(she)線(xian)、γ射(she)線(xian)、中子(zi)、高能帶(dai)電粒子(zi)等，其(qi)防(fang)護(hu)目(mu)的(de)在於(yu)既(ji)保(bao)證(zheng)圓滿達(da)到(dao)應用輻(fu)射(she)源(yuan)，又(you)使人(ren)員受到(dao)的(de)照(zhao)射(she)保(bao)持在合(he)理做到(dao)的(de)zui低(di)水(shui)平(ping)。如何來(lai)做好(hao)外照(zhao)射(she)防(fang)護(hu)？

基(ji)本方(fang)法有(you)：    

1. 時間防(fang)護(hu)——縮(suo)短受照(zhao)時間。人(ren)體(ti)受到(dao)的(de)照(zhao)射(she)的(de)累(lei)積(ji)劑(ji)量是隨時間延長而增(zeng)加的(de)，因(yin)此，在某(mou)些(xie)工作(zuo)場合(he)下(xia)，工(gong)作(zuo)人(ren)員不得不在輻(fu)射(she)場(chang)內(nei)進(jin)行工(gong)作(zuo)，且可(ke)能持續壹段時間，此時就必須采取(qu)輪(lun)流(liu)、替換(huan)的(de)辦(ban)法，限(xian)制(zhi)每(mei)個(ge)人(ren)的(de)操(cao)作(zuo)時間，將每人(ren)所(suo)受的(de)劑(ji)量控(kong)制在限(xian)值(zhi)以(yi)下。    

2、距離防(fang)護(hu)——增(zeng)大與(yu)源(yuan)的(de)距離。人(ren)體(ti)受到(dao)照(zhao)射(she)的(de)劑(ji)量率(lv)是隨離開源(yuan)的(de)距離增大而減少(shao)的(de)，特別是電離輻射(she)源(yuan)可(ke)視為(wei)點狀的(de)時候。因(yin)此在實際工作(zuo)中，應(ying)盡(jin)量(liang)采取(qu)遠(yuan)距離操作(zuo)。如采(cai)用(yong)不同(tong)功用(yong)的(de)長柄(bing)器械(xie)或(huo)機(ji)械手進行遠(yuan)距離操作(zuo)，使控(kong)制(zhi)室(shi)或操作(zuo)臺(tai)與放(fang)射(she)源(yuan)有(you)足夠的(de)距離等。    

3、屏(ping)蔽(bi)防(fang)護(hu)——設(she)置(zhi)防(fang)護(hu)屏(ping)障。在實際工作(zuo)中雖然通過(guo)調(tiao)節時間、距離來減少(shao)人(ren)體(ti)受到(dao)的(de)劑(ji)量，但是為了(le)達到電離輻射(she)源(yuan)預(yu)期的(de)應(ying)用(yong)目(mu)的(de)和保(bao)證(zheng)對(dui)預定(ding)的(de)照(zhao)射(she)程(cheng)序的(de)有(you)效操(cao)作(zuo)和控(kong)制(zhi)，客(ke)觀(guan)上不允許(xu)無(wu)限(xian)制(zhi)地(di)縮(suo)短(duan)受照(zhao)時間和增(zeng)大(da)與源(yuan)的(de)距離，在此(ci)種(zhong)情況下為了(le)達到有(you)效的(de)防(fang)護(hu)目(mu)的(de)，常采(cai)取(qu)屏(ping)蔽(bi)防(fang)護(hu)措(cuo)施(shi)，以屏(ping)蔽(bi)電離輻射(she)源(yuan)對(dui)人(ren)體(ti)造成的(de)超(chao)過(guo)*的(de)輻(fu)射(she)照(zhao)射(she)。常用(yong)的(de)屏(ping)蔽(bi)材(cai)料只(zhi)要所(suo)用(yong)物(wu)質(zhi)其(qi)厚度(du)足以將輻射(she)衰(shuai)減到(dao)所(suo)要求(qiu)的(de)水(shui)平(ping)，則大(da)多數物(wu)質(zhi)都(dou)可(ke)用作(zuo)輻射(she)的(de)屏(ping)蔽(bi)材(cai)料。如水(shui)、磚、大(da)理石、混(hun)凝(ning)土、以及鉛(qian)、鐵等重(zhong)金(jin)屬(shu)和含鉛(qian)制(zhi)品(pin)。